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Basisinformation

Modell: SD01

Produktbeschreibung




Saphir-Schleifscheiben werden hauptsächlich zum Rückdünnen von Saphir-Epitaxialwafern, Silizium-
-Wafern, Galliumarsenid- und GaN-Wafern verwendet. Diese in unserem Unternehmen entwickelte Schleifscheibe kann
importierte Produkte ersetzen. Sie können dauerhaft auf den japanischen, koreanischen Mühlen mit hoher Leistung verwendet werden.
Bearbeitetes Werkstück:
Saphir-Epitaxiewafer, Siliziumwafer, Galliumarsenid und GaN-Wafer

Material der Werkstücke:
Synthetischer Saphir, einkristallines Silizium, Galliumarsenid und GaN-Materialien

Schleifmaschinen:
SHUWA SGM-6301,NTS Nano Surface-180G,NTS Nanosurface 250/NC-VDM,WEC






Dieser Scheibentyp wird hauptsächlich zum Feinschleifen in der Photovoltaik-Halbleiterindustrie verwendet. Mit hoher Effizienz und Kosteneffizienz funktioniert es gut auf Schleifmaschinen in Japan und Deutschland, die hauptsächlich zum Rückdünnen von Saphir-Epitaxiewafern, Siliziumwafern, Galliumarsenid- und GaN-Wafern verwendet werden.


Federn:
1.Gute Selbstschärfeleistung und gute Elastizität
2.Hohe Schleifleistung und niedrige Schleiftemperatur
3.Hohe Bearbeitungspräzision und gute Oberflächengüte
Anwendung:
1. Schleifscheiben für Saphirwafer
2. ausgezeichnete Qualität.
3, stetiges Arbeiten
4. lange Lebensdauer.
5. hohe Leistung


Spezifikation:

hape code

Profile Sketch

Conventional Specification (mm)

Out diameter D

Thickness

T

Hole diameter H

6A2

 

175

30, 35

76

200

35

76

375

40

127

6A2T

 

195

22.5, 25

170

280

30

228.6

350

35

235

6A2T

 

209

22.5

158




Produktgruppe : Segelschleifscheiben-Serie > Sail Metallgebundene Schleifscheiben